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Hakuto離子蝕刻機20IBE-J應用于硬盤 GMR 磁頭

  • 發布日期:2021-02-27 07:42
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詳細說明
 硬盤磁頭, 是硬盤讀取數據的關鍵部件, 磁頭的好壞在很大程度上決定著硬盤盤片的存儲密度.

 

GMR 磁頭的使用了磁阻效應更好的材料和多層薄膜結構, 這比以前的傳統磁頭和MR(Magneto Resisive)磁阻磁頭更為敏感, 相對的磁場變化能引起來大的電阻值變化, 從而實現更高的存儲密度.

 

某硬盤磁頭制造商采用伯東 Hakuto 離子蝕刻機 20IBE-J 應用于硬盤磁頭鍍制GMR磁頭導電材料和磁性材料薄膜構.

 

Hakuto 離子蝕刻機 20IBE-J 技術參數

離子蝕刻

Φ4 inch X 12片

基片尺寸

Φ4 inch X 12片

Φ5 inch X 10片

Φ6 inch X 8片

均勻性

±5%

硅片刻蝕率

20 nm/min

樣品臺

直接冷卻,水冷

離子源

Φ20cm 考夫曼離子源

 

Hakuto 離子刻蝕機 20IBE-J 的核心構件離子源采用的是伯東公司代理美國 考夫曼博士創立的 KRI考夫曼公司的射頻離子源 RFICP220

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 220 技術參數:

離子源型號

RFICP 220

Discharge

RFICP 射頻

離子束流

>800 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

20 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射

流量

10-40 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

30 cm

直徑

41 cm

中和器

LFN 2000

* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量

 

Hakuto 離子刻蝕機 20IBE-J 的樣品臺可以 0-90 度旋轉, 實現 GMR 磁頭均勻地接受離子的轟擊, 進而實現提高 GMR 磁頭的加工質量.

 

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上海伯東 : 羅先生                               臺灣伯東 : 王小姐
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
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ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

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